光刻机是目前世界上最複杂的精密设备之一，晶片製造的核心设备之一，除了可以用来生产晶片，还有用于封装的光刻机、LED 製造领域的投影光刻机。光刻机对于现今的科技发展有着非常重要的作用。
作为全球唯一能生产 EUV 光刻机的公司——荷兰 ASML 公司。去年共销售26台 EUV 光刻机，用于台积电、Samsung 的 7nm 和 5nm 工艺製造。现在 ASML 销售的光刻机主要为 NXE:3400B 和改进型的 NXE:3400C，结构上相似。差别在于 NXE:3400C 採用模块化设计，将48小时缩短到8-10小时;NXE:3400C 的产量也从 125WPH 提升到了 175WPH。实际上，这两款 EUV 光刻机属于第一代，物镜系统的 NA(数值孔径)为0.33。
在光刻机的分辨率公式中，NA 数字越大，代表光刻机精度更高。 ASML现在在研发新一代 EUV 光刻机 EXE:5000 系列，NA 为 0.55。主要合作伙伴有 Carl Zeiss AG 和 IMEC 比利时微电子中心。
据悉，EXE:5000 系列 EUV 光刻机主要面向 3nm 时代，要知道现在台积电和Samsung的製程工艺路线图已经到了3nm，要想让技术尽快落地到实际，EXE:5000 系列 EUV 光刻机的研发就是最为主要的。
根据 ASML 的爆料，EXE:5000 系列 EUV 光刻机最快会于 2021 年面世，经过几年的生产，最快可能会于 2023年或者 2024年上市。
