众所周知，美国在半导体行这一方面一直都处于垄断地位，因此华为才会轻易地被收拾。明显中国是想救华为的，但中国没有製造晶片的设备，因此中国更加重视半导体行业的研发，尤其是光刻机的研发，晶片设计技术中国早已掌握，只有中国研发出了光刻机，中国晶片业才有救。
但此次中国无法和以前一样从外国购置一台光刻机进行研究摸索或者叫「逆向研发」，因为目前的光刻机都被美国规则所限制，无论是 ASML 的 EUV，还是 Nikon、Canon 的光刻机中国都难以购买使用。
美国的规则让全球的光刻机销量陷入僵局，影响最明显的要数 Nikon，它一度是全球最大的半导体设备厂商，但现在份额大降，只有 7% 的份额了。对此公司日前宣布裁员10%，大约有 2000人会失业，Nikon 的光刻机部门也要寻求新客户了。
在宣布裁员前，Nikon 其 70-80% 的光刻机营收都是来自 Intel 公司，这两家公司一直以来都是亲密合作伙伴，2002年 Nikon 陷入危机的时候，Intel 还慷慨解囊花费 9633万元帮扶了 Nikon。但过于单一的销路也确实让 Nikon 难以良性发展，今年 4月到9月份 Nikon 收到的订单量大幅下滑，光刻机採购数量只有 9台，比以往下滑了一半。
为了改变一直下滑的业绩，日媒表示 Nikon 将把重点放在中国厂商上，一方面中国公司正在大力发展半导体行业，另一方面日本与中国没有什么纠纷，不受限制。不过现时看来，Nikon 亦不会贸然向中国出售光刻机，原因有二，一是 Nikon 光刻机究竟有多少美国技术仍是未知数，二是 Nikon 光刻机仍在 DUV 水平，即是勉强可生产 7nm 晶片(会良率低)，如果要追到最顶尖 5nm 水平，又或者想稳定生产 7nm，就需要 EUV 的光刻机。
